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| Ansetzungsform: | Maskentechnik |
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| SWD: | 4125845-9 |
| GND: | 4125845-9 |
| PPN (SWB): | 104418656 |
| Quelle: | B 1986 |
| SWD-Systematiknummer: | 31.9b |
| Notation DDC: | 621.381531 |
| Verweisungsformen allg.: | Maskierungstechnik |
| Übergeordnete Bezeichnung: | Fotolithografie <Halbleitertechnologie> |
| Verwandter Begriff: | Fotolithografie |
DNB: Deutsche Nationalbibliothek
