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Universitätsbibliothek Heidelberg
Status: Bibliographieeintrag

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 Online-Ressource
Verfasst von:Kleditzsch, Stefan [VerfasserIn]   i
 Riedel, Uwe [VerfasserIn]   i
Titel:Sensitivity studies for volume averaged models of plasma etch reactors
Verf.angabe:S. Kleditzsch, U. Riedel
Umfang:4 S.
Fussnoten:Gesehen am 02.10.2017
Titel Quelle:Enthalten in: Surface and coatings technology
Jahr Quelle:2001
Band/Heft Quelle:142(2001), Supplement C, S. 536-539
ISSN Quelle:1879-3347
Abstract:A well-stirred reactor model is employed to model the etching of silicon in low pressure chlorine/argon plasmas. The model gives the spatially averaged species composition and etch rate in a plasma etch reactor by solving conservation equations for species, mass and electron energy distribution function (EEDF). Systematic sensitivity analyses, made possible by a new iterative approach, allows the identification of key parameters for improved fault detection and model based process control of plasma reactors.
DOI:doi:10.1016/S0257-8972(01)01068-4
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Verlag: http://dx.doi.org/10.1016/S0257-8972(01)01068-4
 Verlag: http://www.sciencedirect.com/science/article/pii/S0257897201010684
 DOI: https://doi.org/10.1016/S0257-8972(01)01068-4
Datenträger:Online-Ressource
Sprache:eng
K10plus-PPN:1563999668
Verknüpfungen:→ Zeitschrift

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