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 Online-Ressource | |
| Verfasst von: | Kleditzsch, Stefan [VerfasserIn]  |
| Riedel, Uwe [VerfasserIn] | |
| Titel: | Sensitivity studies of silicon etching in chlorine/argon plasmas |
| Verf.angabe: | S. Kleditzsch and U. Riedel |
| Umfang: | 7 S. |
| Fussnoten: | Gesehen am 02.10.2017 |
| Titel Quelle: | Enthalten in: Journal of vacuum science & technology / A |
| Jahr Quelle: | 2000 |
| Band/Heft Quelle: | 18(2000), 5, S. 2130-2136 |
| ISSN Quelle: | 1520-8559 |
| DOI: | doi:10.1116/1.1285997 |
| URL: | Bitte beachten Sie: Dies ist ein Bibliographieeintrag. Ein Volltextzugriff für Mitglieder der Universität besteht hier nur, falls für die entsprechende Zeitschrift/den entsprechenden Sammelband ein Abonnement besteht oder es sich um einen OpenAccess-Titel handelt. Verlag: http://dx.doi.org/10.1116/1.1285997 |
| Verlag: http://avs.scitation.org/doi/abs/10.1116/1.1285997 | |
| DOI: https://doi.org/10.1116/1.1285997 | |
| Datenträger: | Online-Ressource |
| Sprache: | eng |
| K10plus-PPN: | 1564004724 |
| Verknüpfungen: | → Zeitschrift |
