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Universitätsbibliothek Heidelberg
Status: Bibliographieeintrag

Verfügbarkeit
Standort: ---
Exemplare: ---
heiBIB
 Online-Ressource
Verfasst von:Kleditzsch, Stefan [VerfasserIn]   i
 Riedel, Uwe [VerfasserIn]   i
Titel:Sensitivity studies of silicon etching in chlorine/argon plasmas
Verf.angabe:S. Kleditzsch and U. Riedel
Umfang:7 S.
Fussnoten:Gesehen am 02.10.2017
Titel Quelle:Enthalten in: Journal of vacuum science & technology / A
Jahr Quelle:2000
Band/Heft Quelle:18(2000), 5, S. 2130-2136
ISSN Quelle:1520-8559
DOI:doi:10.1116/1.1285997
URL:Bitte beachten Sie: Dies ist ein Bibliographieeintrag. Ein Volltextzugriff für Mitglieder der Universität besteht hier nur, falls für die entsprechende Zeitschrift/den entsprechenden Sammelband ein Abonnement besteht oder es sich um einen OpenAccess-Titel handelt.

Verlag: http://dx.doi.org/10.1116/1.1285997
 Verlag: http://avs.scitation.org/doi/abs/10.1116/1.1285997
 DOI: https://doi.org/10.1116/1.1285997
Datenträger:Online-Ressource
Sprache:eng
K10plus-PPN:1564004724
Verknüpfungen:→ Zeitschrift

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