![]() | ![]() |
![]() | |
Verfasst von: | Kleditzsch, Stefan [VerfasserIn] ![]() |
Riedel, Uwe [VerfasserIn] ![]() | |
Titel: | Sensitivity studies of silicon etching in chlorine/argon plasmas |
Verf.angabe: | S. Kleditzsch and U. Riedel |
Umfang: | 7 S. |
Fussnoten: | Gesehen am 02.10.2017 |
Titel Quelle: | Enthalten in: Journal of vacuum science & technology / A |
Jahr Quelle: | 2000 |
Band/Heft Quelle: | 18(2000), 5, S. 2130-2136 |
ISSN Quelle: | 1520-8559 |
DOI: | doi:10.1116/1.1285997 |
URL: | Bitte beachten Sie: Dies ist ein Bibliographieeintrag. Ein Volltextzugriff für Mitglieder der Universität besteht hier nur, falls für die entsprechende Zeitschrift/den entsprechenden Sammelband ein Abonnement besteht oder es sich um einen OpenAccess-Titel handelt. Verlag: http://dx.doi.org/10.1116/1.1285997 |
Verlag: http://avs.scitation.org/doi/abs/10.1116/1.1285997 | |
DOI: https://doi.org/10.1116/1.1285997 | |
Datenträger: | Online-Ressource |
Sprache: | eng |
K10plus-PPN: | 1564004724 |
Verknüpfungen: | → Zeitschrift |