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Universitätsbibliothek Heidelberg
Status: Bibliographieeintrag

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 Online-Ressource
Verfasst von:Chen, Wenwen [VerfasserIn]   i
 Diao, Zhaolu [VerfasserIn]   i
 Dirks, Jan-Henning [VerfasserIn]   i
 Geiger, Fania [VerfasserIn]   i
 Spatz, Joachim P. [VerfasserIn]   i
Titel:Enhanced optical transmittance by reduced reflectance of curved polymer surfaces
Verf.angabe:W. Chen, Z. Diao, J.-H. Dirks, F. Geiger, J. Spatz
E-Jahr:2017
Jahr:26 May 2017
Umfang:8 S.
Fussnoten:Published online: May 26, 2017 ; Gesehen am 03.07.2018
Titel Quelle:Enthalten in: Macromolecular materials and engineering
Ort Quelle:New York, NY [u.a.] : Wiley InterScience, 2000
Jahr Quelle:2019
Band/Heft Quelle:302(2019), 9, Artikel-ID 1700072, Seite 1-8
ISSN Quelle:1439-2054
Abstract:Subwavelength nanostructure arrays on surfaces improve their optical transmittance by reducing the reflection of light over a wide range of wavelengths and angles of incidence. A method to imprint a sub-100 nm nanostructure array on a large surface (Ø 20 mm) made from thermoplastic materials is reported. Transmittance through the flat polymer is improved by ≈6.5%, reaching values of up to 97.5%, after imprinting. The optical properties of the nanostructured samples are highly reproducible. After eight repeated imprinting operations with the same stamp, the transmittance of the nanostructured surface is decreased by less than 0.2%. Moreover, the nanostructures can also be imprinted on curved polymethylmethacrylate surfaces, achieving a maximum transmittance of 97%. This method to prepare large-scale antireflective nanostructures on flat and flexible curved polymer surfaces is of interest for the production of antireflective screens, optical devices, and biomedical devices such as contact lenses and intraocular lenses.
DOI:doi:10.1002/mame.201700072
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Volltext ; Verlag: http://dx.doi.org/10.1002/mame.201700072
 Volltext: https://onlinelibrary.wiley.com/doi/abs/10.1002/mame.201700072
 DOI: https://doi.org/10.1002/mame.201700072
Datenträger:Online-Ressource
Sprache:eng
Sach-SW:antireflection
 block copolymer micelle lithography
 nanoimprinting
 polymethylmethacrylate
K10plus-PPN:1577194780
Verknüpfungen:→ Zeitschrift

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