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Universitätsbibliothek Heidelberg
Status: Bibliographieeintrag

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Verfasst von:Strunk, Karl-Philipp [VerfasserIn]   i
 Bojanowski, Maximilian [VerfasserIn]   i
 Huck, Christian [VerfasserIn]   i
 Bender, Markus [VerfasserIn]   i
 Veith, Lisa [VerfasserIn]   i
 Tzschoppe, Michael [VerfasserIn]   i
 Freudenberg, Jan [VerfasserIn]   i
 Wacker, Irene [VerfasserIn]   i
 Schröder, Rasmus R. [VerfasserIn]   i
 Pucci, Annemarie [VerfasserIn]   i
 Melzer, Christian [VerfasserIn]   i
 Bunz, Uwe H. F. [VerfasserIn]   i
Titel:Electron-beam irradiation of cinnamate films affords nanoscale patterned substrates for use in devices and as scaffolds in tissue engineering
Verf.angabe:Karl-Philipp Strunk, N. Maximilian Bojanowski, Christian Huck, Markus Bender, Lisa Veith, Michael Tzschoppe, Jan Freudenberg, Irene Wacker, Rasmus R. Schröder, Annemarie Pucci, Christian Melzer, and Uwe H.F. Bunz
E-Jahr:2020
Jahr:June 5, 2020
Umfang:6 S.
Fussnoten:Gesehen am 08.10.2020
Titel Quelle:Enthalten in: ACS applied nano materials
Ort Quelle:Washington, DC : ACS Publications, 2018
Jahr Quelle:2020
Band/Heft Quelle:3(2020), 8, Seite 7365-7370
ISSN Quelle:2574-0970
Abstract:The fabrication of electronic, photonic, and metamaterial-based devices, or tissue engineering requires the controlled deposition and patterning of materials. Electron-beam lithography (EBL) offers unprecedented miniaturization of those devices because of its high resolution. We present a concept to induce a classic photochemical reaction in condensed matter via EBL. We investigate the response of a tetrameric cinnamate monomer in thin films toward photon and electron radiation. In the solid state, photoexcitation and electron bombardment similarly induce [2 + 2] cycloadditions, forming insoluble truxilic acid esters, as shown via IR spectroscopy measurements. Subsequently, we employed the investigated material as an electron-beam resist, showing resistance against wet-chemical etchants. Structures with resolution down to 60 nm were obtained, not achievable with conventional photolithography, proving that [2 + 2] cycloaddition of cinnamic acid containing compounds is suitable for applications in the field of EBL.
DOI:doi:10.1021/acsanm.0c00458
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Volltext: https://doi.org/10.1021/acsanm.0c00458
 DOI: https://doi.org/10.1021/acsanm.0c00458
Datenträger:Online-Ressource
Sprache:eng
K10plus-PPN:1735216666
Verknüpfungen:→ Zeitschrift

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