Absolute diode laser-based in situ detection of HCl in gasification processes

• Verfasst von: Ortwein, Pascal [VerfasserIn]
• Verfasst von: Woiwode, W. [VerfasserIn]
• Verfasst von: Fleck, S. [VerfasserIn]
• Verfasst von: Eberhard, M. [VerfasserIn]
• Verfasst von: Kolb, T. [VerfasserIn]
• Verfasst von: Wagner, Steven [VerfasserIn]
• Verfasst von: Gisi, M. [VerfasserIn]
• Verfasst von: Ebert, Volker [VerfasserIn]
• Titel: Absolute diode laser-based in situ detection of HCl in gasification processes
• Verf.angabe: P. Ortwein, W. Woiwode, S. Fleck, M. Eberhard, T. Kolb, S. Wagner, M. Gisi, V. Ebert
• E-Jahr: 2010
• Jahr: 10 June 2010
• Umfang: 8 S.
• Fussnoten: Gesehen am 16.06.2023
• Titel Quelle: Enthalten in: Experiments in fluids
• Ort Quelle: Berlin : Springer, 1983
• Jahr Quelle: 2010
• Band/Heft Quelle: 49(2010), 4, Seite 961-968
• ISSN Quelle: 1432-1114
• DOI: doi:10.1007/s00348-010-0904-2
• Datenträger: Online-Ressource
• Sprache: eng
• Sach-SW: Absorption Line
• Sach-SW: Gasification
• Sach-SW: Gasification Process
• Sach-SW: Line Strength
• Sach-SW: Syngas
• K10plus-PPN: 185044160X

Abstract

The release of HCl is an important parameter for industrial combustion and gasification processes, which must be determined in the ppm range for active process control and optimization. Based on a low power vertical-cavity surface-emitting laser (VCSEL) at 1.74 μm, we developed a new tuneable diode laser absorption spectrometer for calibration-free, absolute in situ HCl detection using the H35Cl (2 ← 0) R(3) absorption line with minimized cross-sensitivity to CO2 and H2O. The spectrometer was applied to in situ measurements in a gasification process (T = 1,130°C, P = 1 atm, L = 28 cm) and yielded an optical resolution of 2.3·10−4, i.e. a HCl sensitivity of 45 ppm (13 ppm·m).