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Ansetzungsform: | Sputtern |
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SWD: | 4182614-0 |
GND: | 4182614-0 |
PPN (SWB): | 105309141 |
Quelle: | - Kompakt B, Nachtrag,B 1986 als Kathodenzerstäubung |
Benutzungshinweis: | Verknüpfe mit Anwendungsgebiet, z.B. Trockenätzen oder PVD-Verfahren |
SWD-Systematiknummer: | 31.8a;31.9b |
Notation DDC: | 530.416;667.9 |
Alternativformen: | Sputtering (Physics) Pulvérisation cathodique |
Verweisungsformen allg.: | Festkörperzerstäubung Ionenzerstäubung Ionstrahlsputtern Kathodenzerstäubung Sputtering Ionenstrahlsputtern Sputterdeposition Sputterverfahren |
Übergeordnete Bezeichnung: | Zerstäubung PVD-Verfahren |
Verwandter Begriff: | Zerstäubung PVD-Verfahren |