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| Ansetzungsform: | Sputtern |
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| SWD: | 4182614-0 |
| GND: | 4182614-0 |
| PPN (SWB): | 105309141 |
| Quelle: | - Kompakt B, Nachtrag,B 1986 als Kathodenzerstäubung |
| Benutzungshinweis: | Verknüpfe mit Anwendungsgebiet, z.B. Trockenätzen oder PVD-Verfahren |
| SWD-Systematiknummer: | 31.8a;31.9b |
| Notation DDC: | 530.416;667.9 |
| Alternativformen: | Sputtering (Physics) Pulvérisation cathodique |
| Verweisungsformen allg.: | Festkörperzerstäubung Ionenzerstäubung Ionstrahlsputtern Kathodenzerstäubung Sputtering Ionenstrahlsputtern Sputterdeposition Sputterverfahren |
| Übergeordnete Bezeichnung: | Zerstäubung PVD-Verfahren |
| Verwandter Begriff: | Zerstäubung PVD-Verfahren |
DNB: Deutsche Nationalbibliothek
