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| Ansetzungsform: | Ionenimplantation |
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| SWD: | 4027606-5 |
| GND: | 4027606-5 |
| PPN (SWB): | 104321806 |
| Quelle: | M |
| SWD-Systematiknummer: | 21.5;31.9b |
| Notation DDC: | 530.416 |
| Alternativformen: | Ion implantation Ions / Implantation |
| Verweisungsformen allg.: | Ionenstrahldotierung Implantation <Halbleitertechnologie> Ionenstrahlimplantation |
| Übergeordnete Bezeichnung: | Dotierung |
| Verwandter Begriff: | Dotierung |
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