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| Ansetzungsform: | Fotolithografie <Halbleitertechnologie> |
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| SWD: | 4174516-4 |
| GND: | 4174516-4 |
| PPN (SWB): | 104392924 |
| Quelle: | M/Nachtr. unter Lithographie ; Spektrum Lex. Physik unter Lithographie ; Wikipedia |
| Benutzungshinweis: | Für die Strukturierung aller Arten von Oberflächen (nicht nur von Halbleitern) mittels optischer Strahlung. |
| SWD-Systematiknummer: | 31.9b |
| Notation DDC: | 621.381531;621.38152 |
| Verweisungsformen allg.: | Photolithographie <Halbleitertechnologie> |
| Verwandter Begriff: | Lithografie <Halbleitertechnologie> |
DNB: Deutsche Nationalbibliothek
