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| Ansetzungsform: | Elektronenstrahllithografie |
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| SWD: | 4151897-4 |
| GND: | 4151897-4 |
| PPN (SWB): | 104469994 |
| Quelle: | M/Nachtr. unter Lithographie |
| SWD-Systematiknummer: | 31.9b |
| Notation DDC: | 621.381531 |
| Alternativformen: | Lithography, Electron beam Lithographie par faisceau d'électrons |
| Verweisungsformen allg.: | Elektronenstrahllithographie Electron beam lithography |
| Verwandter Begriff: | Lithografie <Halbleitertechnologie> |
DNB: Deutsche Nationalbibliothek
